相关法
专有权。
法律法规
博文解读之集成电路布图设计
布图设计应当具备独创性
（1）“独”：是创作者的智力劳动成果
“独创性”的“独”，要求布图设计应当是由创作者自己的研发成果，而非对他人成果的复制或者抄袭。与《著作权法》相似，《条例》并不排斥独立创作的但雷同的布图设计。对于自己独立创作的布图设计，即便与他人的布图设计碰巧相同，创作者也可自由使用。[5]
（2）“创”：不是公认的常规设计
“独创性”的“创”，要求创作时，布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是“公认的常规设计”。根据《指南》，判断是否为“公认的常规设计”的“布图设计创作者和集成电路制造者”，应当知晓现有常规设计规则和制造工艺，知晓在受保护的布图设计创作时所有的公认的常规设计[6]，类似于专利法中的“本领域技术人员”。
博文解读之植物新品种保护条例
集成电路布图设计保护条例
(2001 年 4 月 2 日中华人民共和国国务院令第 300 号公布)
第一章 总则
第一条 为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术 的发展，制定本条例。
第二条 本条例下列用语的含义:
(一)集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源 元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电 子功能的中间产品或者最终产品;
(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元 件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述 三维配置;
(三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法 人或者其他组织;
(四)复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为;
(五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、
含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
第三条 中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专 有权。
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有 权。
外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国 共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
第四条 受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成 果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设 计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
第五条 本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。
第六条 国务院知识产权行政部门依照本条例的规定，负责布图设计专有权的有关管理 工作。
第二章 布图设计专有权
第七条 布图设计权利人享有下列专有权:
(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;
(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
第八条 布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。
未经登记的布图设计不受本条例保护。
第九条 布图设计专有权属于布图设计创作者，本条例另有规定的除外。
由法人或者其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组 织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。
由自然人创作的布图设计，该自然人是创作者。
第十条 两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由 合作者约定;未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。
第十一条 受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定;未作 约定或者约定不明的，其专有权由受托人享有。
第十二条 布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任 何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业 利用，布图设计自创作完成之日起 15 年后，不再受本条例保护。
第十三条 布图设计专有权属于自然人的，该自然人死亡后，其专有权在本条例规定的 保护期内依照继承法的规定转移。
布图设计专有权属于法人或者其他组织的，法人或者其他组织变更、终止后，其专有权 在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或者其他组织享有;没有承继其权利、 义务的法人或者其他组织的，该布图设计进入公有领域。
第三章 布图设计的登记
第十四条 国务院知识产权行政部门负责布图设计登记工作，受理布图设计登记申请。
第十五条 申请登记的布图设计涉及国家安全或者重大利益，需要保密的，按照国家有 关规定办理。
第十六条 申请布图设计登记，应当提交:
(一)布图设计登记申请表;
(二)布图设计的复制件或者图样;
(三)布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品;
(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。
第十七条 布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识 产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。
第十八条 布图设计登记申请经初步审查，未发现驳回理由的，由国务院知识产权行政 部门予以登记，发给登记证明文件，并予以公告。
第十九条 布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不 服的，可以自收到通知之日起 3 个月内，向国务院知识产权行政部门请求复审。国务院知识 产权行政部门复审后，作出决定，并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务 院知识产权行政部门的复审决定仍不服的，可以自收到通知之日起 3 个月内向人民法院起 诉。
第二十条 布图设计获准登记后，国务院知识产权行政部门发现该登记不符合本条例规 定的，应当予以撤销，通知布图设计权利人，并予以公告。布图设计权利人对国务院知识产 权行政部门撤销布图设计登记的决定不服的，可以自收到通知之日起 3 个月内向人民法院起 诉。
第二十一条 在布图设计登记公告前，国务院知识产权行政部门的工作人员对其内容负 有保密义务。
第四章 布图设计专有权的行使
第二十二条 布图设计权利人可以将其专有权转让或者许可他人使用其布图设计。
转让布图设计专有权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权行政部门登记， 由国务院知识产权行政部门予以公告。布图设计专有权的转让自登记之日起生效。
许可他人使用其布图设计的，当事人应当订立书面合同。
第二十三条 下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬:
(一)为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计 的;
(二)在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设 计的;
(三)对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。
第二十四条 受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物 品，由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图设计 权利人许可，并不向其支付报酬。
第二十五条 在国家出现紧急状态或者非常情况时，或者为了公共利益的目的，或者经 人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要 给予补救时，国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的非自愿许可。
第二十六条 国务院知识产权行政部门作出给予使用布图设计非自愿许可的决定，应当 及时通知布图设计权利人。
给予使用布图设计非自愿许可的决定，应当根据非自愿许可的理由，规定使用的范围和 时间，其范围应当限于为公共目的非商业性使用，或者限于经人民法院、不正当竞争行为监 督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予的补救。
非自愿许可的理由消除并不再发生时，国务院知识产权行政部门应当根据布图设计权利 人的请求，经审查后作出终止使用布图设计非自愿许可的决定。
第二十七条 取得使用布图设计非自愿许可的自然人、法人或者其他组织不享有独占的 使用权，并且无权允许他人使用。
第二十八条 取得使用布图设计非自愿许可的自然人、法人或者其他组织应当向布图设 计权利人支付合理的报酬，其数额由双方协商;双方不能达成协议的，由国务院知识产权行 政部门裁决。
第二十九条 布图设计权利人对国务院知识产权行政部门关于使用布图设计非自愿许 可的决定不服的，布图设计权利人和取得非自愿许可的自然人、法人或者其他组织对国务院 知识产权行政部门关于使用布图设计非自愿许可的报酬的裁决不服的，可以自收到通知之日 起3个月内向人民法院起诉。
第五章 法律责任
第三十条 除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行 为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任:
(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的;
(二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计 的集成电路或者含有该集成电路的物品的。
侵犯布图设计专有权的赔偿数额，为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。
第三十一条 未经布图设计权利人许可，使用其布图设计，即侵犯其布图设计专有权， 引起纠纷的，由当事人协商解决;不愿协商或者协商不成的，布图设计权利人或者利害关系 人可以向人民法院起诉，也可以请求国务院知识产权行政部门处理。国务院知识产权行政部 门处理时，认定侵权行为成立的，可以责令侵权人立即停止侵权行为，没收、销毁侵权产品 或者物品。当事人不服的，可以自收到处理通知之日起 15 日内依照《中华人民共和国行政 诉讼法》向人民法院起诉;侵权人期满不起诉又不停止侵权行为的，国务院知识产权行政部 门可以请求人民法院强制执行。应当事人的请求，国务院知识产权行政部门可以就侵犯布图 设计专有权的赔偿数额进行调解;调解不成的，当事人可以依照《中华人民共和国民事诉讼 法》向人民法院起诉。
第三十二条 布图设计权利人或者利害关系人有证据证明他人正在实施或者即将实施 侵犯其专有权的行为，如不及时制止将会使其合法权益受到难以弥补的损害的，可以在起诉 前依法向人民法院申请采取责令停止有关行为和财产保全的措施。
第三十三条 在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时， 不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不 视为侵权。
前款行为人得到其中含有非法复制的布图设计的明确通知后，可以继续将现有的存货或 者此前的订货投入商业利用，但应当向布图设计权利人支付合理的报酬。
第三十四条 国务院知识产权行政部门的工作人员在布图设计管理工作中玩忽职守、滥用职权、徇私舞弊，构成犯罪的，依法追究刑事责任;尚不构成犯罪的，依法给予行政处分。
第六章 附则
第三十五条 申请布图设计登记和办理其他手续，应当按照规定缴纳费用。缴费标准由 国务院物价主管部门、国务院知识产权行政部门制定，并由国务院知识产权行政部门公告。
第三十六条 本条例自2001年10月1日起施行。
案例
刍议集成电路布图设计专有权的法律保护
集成电路的保护是知识产权保护的重要组成部分，但集成电路布图设计的侵权案件却相对鲜见。2021年2月26日，最高人民法院知识产权法庭通报了2020年技术类知识产权典型案例，其中纳入了其受理的首起集成电路布图设计侵权的二审案件。[1]鉴此，笔者特结合既往案例，梳理相关法规，以一窥我国集成电路布图设计的法律保护制度之概貌。
2001年4月2日，国务院发布《集成电路布图设计保护条例》（下称“《条例》”）。同年，国家知识产权局（下称“国知局”）相继发布《集成电路布图设计保护条例实施细则》（下称“《细则》”）、《集成电路布图设计行政执法办法》。经多年实践，国知局又于2019年4月发布《集成电路布图设计审查与执法指南（试行）》（下称“《指南》”），对集成电路布图设计的行政审查与执行做出指引。
一、集成电路布图设计专有权的保护条件
根据《条例》第八条、第十八条，集成电路布图设计经国知局登记后方可受到保护，而国知局仅对登记申请做形式审查。因此，集成电路布图设计专有权的保护条件可理解为如下两个层次：其一为形式要件，即通过形式审查后登记产生专有权的条件；其二为实质要件，即登记产生的专有权具有实质效力的条件。[2]
（一）形式条件：经形式审查后进行登记
- 积极条件：提交符合法定要求的材料
根据《条例》第十六条，申请集成电路布图设计的，申请人应当提交申请表、复制件或者图样；如果该布图设计已投入商业利用的，还应当提交含有该布图设计的集成电路样品。
在《条例》基础上，《细则》第二章对申请材料提出了进一步要求。其中，《细则》要求提交的纸件至少应放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上；申请人也可在提交复制件或图样纸件的同时，提交包含布图设计全部信息的电子版本；另外，复制件或图样还可以附具简单的文字说明，对布图设计的结构、技术、功能和其他事项加以说明。
- 消极条件：登记申请未超出法定时限
根据《条例》第十七条，布图设计应当自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内提出登记申请，否则国知局将不再予以登记，申请人只能通过专利等其他途径寻求保护。[3]如果申请的布图设计通过国知局形式审查的，布图设计专有权自申请日起生效，且保护期为10年，起算日为登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日。
（二）实质条件：充分公开且具备独创性
- 布图设计应当充分公开
充分公开虽然不是明文要求，但从制度目的、侵权判断的角度可以推知，充分公开系布图设计专有权的实质条件。
一方面，与专利法相类似，布图设计专有权的制度逻辑也是以技术公开作为专有权保护的对价，以有期限的保护换取社会公众对先进技术的接触。因此，如果申请人不充分公开其布图设计即可获得专有权保护，将有违制度逻辑。
另一方面，布图设计的侵权判断需要比对被控侵权产品的布图设计与申请登记的布图设计。若申请登记的布图设计没有充分公开，那么侵权判断将失去比对基础，权利人也不可能得到任何保护。例如，有法院就认为，“原告提交的布图设计图样只有两层金属层图样……无法确定包含有源元件在内的各种元件与互连线路的具体内容”，因而不予支持原告诉请。[4]
当然，需要注意的是，充分公开仅意味着公开的程度应明确具体，而不要求公开的范围为全部公开，《细则》第十五条即允许在申请日前没有投入商业利用的布图设计在申请时包含部分保密信息。
另如前述，《细则》要求申请人提交的纸件至少应放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上，这显然是为充分公开而做出的规定。不过，考虑到集成电路的布图设计日益复杂精细，申请者提交的纸件不能仅以规定的20倍为限，而应尽量充分公开其申请保护的所有独创性部分。
- 布图设计应当具备独创性
（1）“独”：是创作者的智力劳动成果
“独创性”的“独”，要求布图设计应当是由创作者自己的研发成果，而非对他人成果的复制或者抄袭。与《著作权法》相似，《条例》并不排斥独立创作的但雷同的布图设计。对于自己独立创作的布图设计，即便与他人的布图设计碰巧相同，创作者也可自由使用。[5]
（2）“创”：不是公认的常规设计
“独创性”的“创”，要求创作时，布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是“公认的常规设计”。根据《指南》，判断是否为“公认的常规设计”的“布图设计创作者和集成电路制造者”，应当知晓现有常规设计规则和制造工艺，知晓在受保护的布图设计创作时所有的公认的常规设计[6]，类似于专利法中的“本领域技术人员”。
二、集成电路布图设计专有权的保护范围
一个集成电路中往往包括成千上万个电路元件和互连线路，不可能其中的所有三维配置都受保护。因此，在侵权比对前，首先应当界定专有权的保护范围，即权利人对于布图设计的哪些三维配置享有专有权，以及专有权的权利边界止于何处的问题。
（一）确定保护范围的既有司法规则
《指南》公布前，并没有明文规定应如何确定专有权保护范围，所以司法实践中，法院曾有过不同观点，其间的差异和变化颇可见得集成电路布图设计法律保护制度的特点。
- 以登记时提交的复制件、图样或样品来确定保护范围
深圳中院在一起案件一审中认为，“布图设计专有权的保护范围应当以布图设计授权文件所确定的三维配置为准。权利人所提交的布图设计的复制件或者图样，或者提交的集成电路样品均用于确定这种三维配置。”[7]最终，该院调取了涉案集成电路申请时提交的样品，以此作为侵权比对对象。可见，该观点认为，布图设计的复制件、图样或者样品，均可单独用以确定专有权的保护范围。
- 以登记时提交的复制件、图样来确定保护范围
南京中院有案例认为：“布图设计的内容应当以提交在国家知识产权局申请文件中并经公告公示的布图设计复制件或者图样确定，布图设计专有权的保护范围也应当以此确定。在复制件或者图样的电子版本、集成电路样品中包含了与复制件或者图样所确定的布图设计时，其一致的布图设计部分也可以用来确定保护范围。”[8]这一意见也得到江苏高院及最高法院的支持。
此外，深圳中院也认为，“当发生申请人备案的电子版、芯片样品载体所反映的布图设计与备案的复制件或图样载体所反映的布图设计不同或不完全相同，应以备案的复制件或图样载体所反映的布图设计作为权利保护范围的依据。”[9]
该观点认为，备案的布图设计复制件、图样是确定保护范围的根本依据，而复制件或图样的电子版本，以及样品等，只有在其包含的布图设计与复制件、图样中的一致时，才能辅助确定保护范围。
- 以芯片生产过程中的掩模版来确定保护范围
在产业实践中，集成电路的制造是以布图设计的图样为依据，制备相应的光刻掩模版，再依据光刻掩模版的图样按顺序对基片进行一系列技术处理，制造出符合图样定义的电子元件、连线，并形成电路的。因此，掩模版作为集成电路设计与制造环节的中间产品，在某些案例中被作为确定布图设计保护范围的依据。
例如，南京中院在另一起案件一审中认为，“光刻掩模版通过一定技术手段实现了布图设计图样图形的转移，用于制造管芯，其固定了管芯及封装后的集成电路的布图设计。”[10]因此，该院调取了用于生产涉案管芯的光刻掩模版作为侵权比对对象。
无独有偶，三年后同样是南京中院的另一案件中，在认可以布图设计复制件或图样确定保护范围的情况下，该院指出“布图设计可以由图样确定并体现，也可以由相应的光刻掩模版体现。”[11]因此，该观点实质上是在认同以布图设计的复制件、图样确定保护范围的前提下，以光刻掩模版作为图样的载体，进而进行侵权比对。
综上，第一种观点与第二种观点明显龃龉，而最高法院态度鲜明地支持了第二种观点。理由主要为：（1）复制件或图样是所有布图设计登记时必须提交的材料，但只有申请时已投入商业利用的布图设计才需提交样品；（2）样品虽然是布图设计的载体，但公众无法直接通过样品获悉布图设计的具体内容，若以样品确定保护范围，同样有违“以公开换保护”的机制。[12]
对于第三种观点，笔者以为，虽然芯片制造过程中，光刻掩模版需重现交付制造的布图设计的图样，但提交登记的复制件、图样与实际制造过程中的图样未必完全一致，这一事实仍需证明或查实：如果不一致，那么第三种观点无疑有失偏颇。例如，权利人的布图设计若未充分公开，而法院径直以光刻掩模版作为比对基础，有为当事人扩大保护范围之嫌；如果是一致的，那么第三种观点实质上即是为便于开展鉴定等调查而对第二种观点进行改良的结果。
（二）《指南》中确定保护范围的规则
在法院观点逐渐统一的过程中，国知局也通过《指南》对保护范围的确定做出指引。根据《指南》第63-64页：（1）布图设计专有权的保护范围应以在申请文件中提交的、且经公告公示的布图设计的复制件或图样确定；（2）如果复制件或图样尚不足以完整、清晰地反映布图设计的内容，那么可以对样品进行反向剖析，在确认与复制件或图样一致的情况下，辅助确认保护范围，这与前述第二种司法观点是一致的；[13]（3）权利人提交申请时，如果对布图设计的独创性进行过具体说明，则相应的说明应视为权利人在具体案件中主张的保护范围。
（三）集成电路布图设计专有权的权利内容
知识产权的本质是禁止权，即禁止他人对某些客体进行某些行为的权利。在《条例》公布前，虽然我国没有集成电路布图设计专有权，但企业均能自由进行集成电路的设计、制造、进口、销售；在《条例》公布后，集成电路布图设计专有权的权利人始得禁止其他企业对特定客体进行特定行为，而特定客体及特定行为，即是集成电路布图设计专有权的权利内容，具体有复制权和商业利用权。
- 复制权
根据《条例》第三十条第一款，“复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的”，属于侵权行为。结合《条例》第二条第四款，“复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为”。因此，复制权控制的行为是“重复制作”，客体是“布图设计”或“含有该布图设计的集成电路”。
- 商业利用权
根据《条例》第三十条第二款，“为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的”，也属于侵权行为。
可见，商业利用权控制的行为是“为商业目的”而“进口、销售或者以其他方式提供”。所以，如果是为个人目的或为评价、分析、研究、教学等非商业目的的行为，不构成商业利用权侵权。商业利用权控制的客体是“布图设计”、“含有该布图设计的集成电路”或“含有该集成电路的物品”。相较于复制权，商业利用权的权利范围显然更大。如果某电器使用了含有受保护的布图设计的集成电路，无论受保护的布图设计对电器整体而言的比例高低或重要性几何，该电器也在商业利用权的禁止之列。
三、集成电路布图设计专有权的侵权救济
对于侵权救济而言，权利人可能主要关注侵权救济的途径及侵权判断的比对。
（一）侵权救济的途径：司法和行政并举
根据《条例》第三十一条，布图设计的侵权纠纷可以选择向法院起诉和请求国知局处理的方式加以解决。但需注意的是，国知局仅有权处理布图设计的侵权纠纷，对于权属纠纷等，当事人仍只能向法院起诉。例如，在国知局处理的首起集成电路布图设计侵权纠纷中，被请求人即对涉案布图设计的权属提出质疑，但因为行政执法委员会无权处理权属争议，所以被请求人只能向法院另行起诉。[14]
（二）侵权比对的对象：有独创性的部分
侵权比对的最小单位就是专有权保护的最小单位。根据《条例》第三十条第一款及《指南》第65页，即使是经过登记、已产生布图设计专有权的集成电路布图设计，其受保护的部分也仅限于其中具有独创性的部分，这即是专有权保护的最小范围。
“具有独创性的部分”指的并不是个别元件或连接，而应当是相对独立的模块，即具备电子功能的相对独立性、物理边界的相对独立性。例如，触发器、计数器、放大器、振荡器等模块，因其具有完整的电路功能，可认定为独创性区域；但是像晶体管、电容等不能构成独立功能的电路，就不能构成独创性区域。[15]
在布图设计的侵权诉讼中，法院首要确定的往往是独创性。但具备独创性属于无法直接证明的消极事实。因此在司法实践中，如果权利人已申请获得了布图设计专有权，则法院将推定涉案布图设计具有独创性，无独创性的举证责任由被告承担。对此，具有代表性的司法观点认为，“积极事实的主张者若想否定消极事实主张者的主张，只需简单举出反证即可。如果被诉侵权人不能证明其主张，就要承担对其不利的法律后果。”[16]
（三）侵权判断的规则：接触+实质性相似+无免责事由
与著作权法的侵权判断相类似的，布图设计专有权的侵权判断也遵循“接触+实质性相似+无免责事由”的思路。
- 有接触可能性
接触可能性的认定，要求被告的布图设计晚于原告，否则如果被告的布图设计专有权成立在先，即便二者的布图设计完全相同，被告也不可能构成侵权。[17]
在此前提下，接触可能性的认定还需要区分涉案的集成电路布图设计是否已经投入商业利用。如果涉案布图设计已投入商业利用，则在后的被告将被推定有接触权利人在先的布图设计的可能性；如果涉案布图设计未投入商业利用，则权利人应当举证，证明被告有可能接触到在先未投入商业利用的布图设计，例如，被告曾向国知局查阅过该布图设计的纸件等。
- 实质性相似
因为集成电路布图设计的内容微缩且技术性强，法院在进行实质性相似的比对时，往往需要依靠反向工程等手段进行技术鉴定。司法实践中，该技术鉴定一般是为解决如下两个问题：（1）是否具有独创性；（2）是否构成实质性相似。如前所述，虽然布图设计独创性作为消极事实，应由被告举证加以反驳，但因为独创性是实质性相似鉴定的逻辑前提，而且比对前也需要筛选掉无独创性的内容，所以鉴定机构也多会先鉴定独创性之有无。而鉴定意见虽然是法院查明侵权事实的重要参考，但并非是唯一依据。法院会结合鉴定意见查明的技术情况，从法律角度做出侵权与否的判断。
- 无免责事由
所谓免责事由，即行为人在各项侵权要件成立后，因为符合特定规定而无需承担全部或部分侵权责任的特殊情形。根据《条例》相关规定，集成电路布图设计专有权侵权常见的免责事由主要有如下几项。
（1）合理使用抗辩
根据《条例》第二十三条，有三类情形构成合理使用，可简称为为个人目的的复制、反向工程再创作、独立创作。
如果为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学等目的而对受保护的布图设计进行商业利用，行为人将不构成侵权，因为该行为并不受商业利用权的规制。有所区别的是，复制权并未限定行为人的目的要件，为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学等目的的复制行为本应在权利人的控制范围内，行为人只能基于《条例》第二十三条第一项免除侵权责任。
根据《条例》第二十三条第二项，在前述评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的构成合理使用。这一规定认可行为人在反向工程后再创作行为的合法性。对集成电路行业而言，反向工程至少有两个作用。一是推动技术发展：法律允许的反向工程，是在分析和研究的基础上，创作出更先进的集成电路，反向工程后的简单抄袭不足以构成合理使用，行为人仍应承担侵权责任。二是促进市场竞争：通过反向工程，可以创作出功能性和兼容性相近的产品，推动良性的市场竞争。
而与著作权相类似，独立创作的布图设计即便与他人的相同，仍得以自由复制或商业利用。但行为人如在侵权诉讼中援引本项合理使用，其应当提供独立创作的相关证据，而不能仅进行简单抗辩。
（2）善意侵权抗辩
根据《条例》第三十三条，在获得含有受保护的布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品时，不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。
从该抗辩的举证责任来看，应由原告证明被告的主观状态不属于善意，这是司法案例和《指南》的一致观点。[18]原因在于，“不知道且没有合理理由应当知道”的主观状态作为消极事实，同样难以自证；此外，原告对这一主观状态的反驳举证却具有现实可能性，例如布图设计的登记公告仅包括相关著录项目信息，并不公开布图设计的具体内容，原告可举示被告曾查阅过涉案布图设计，即可推翻其善意侵权的抗辩主张。当然，如果行为人知悉其产品中含有非法复制的布图设计的，其虽然仍可继续销售，但销售范围仅限于现有存货或此前的订货，而且还应向布图设计权利人支付合理的报酬。
（3）权利用尽抗辩
类似于专利法中的权利用尽原则，根据《条例》第二十四条，受保护的布图设计、含有布图设计的集成电路及含有集成电路的物品在合法投放市场后，他人可以自由进行商业利用，而不承担侵权责任。
[1] 最高人民法院(2019)最高法知民终490号案。 [2] 法律规定上，集成电路布图设计专有权的取得仅以登记为要件，而本节实质要件系对特定的集成电路布图设计在侵权诉讼中能够最终得到保护的条件的归纳。二者的区别在最高人民法院(2019)最高法知民终490号二审判决中也有论述。 [3]《条例》第十七条。 [4] 参见南京中院(2013)宁知民初字第42号一审民事判决书，这一观点也在二审和再审程序中为江苏高院和最高院所维持。 [5] 参见《条例》第二十三条第三项。 [6] 《指南》第65页。 [7] 广东高院(2014)粤高法民三终字第1231号二审民事判决书。 [8] 江苏高院(2013)苏知民终字第0181号二审民事判决书。 [9] 深圳中院(2012)深中法知民初字第398号一审民事判决书。 [10] 南京中院(2009)宁民三初字第435号一审民事判决书。 [11] 南京中院(2013)宁知民初字第42号一审民事判决书。 [12] 参见最高法院(2015)民申字第785号再审民事裁定书。 [13] 这一观点在最高人民法院(2019)最高法知民终490号案中再次得到确认。 [14] 国家知识产权局集成电路布图设计行政执法委员会集侵字[2017]001号行政处理决定书。 [15] 张军、苏会静：《集成电路布图设计独创性探讨》，《中国知识产权杂志》3月11日。 [16] 江苏高院(2015)苏知民终字第00114号二审民事判决书。 [17] 相似案情参见深圳中院(2009)深中法民三初字第184号一审民事判决书。 [18] 参见《指南》第67页、最高法院(2016)最高法民申1491号再审民事裁定书。